大理石平臺拋光與大理石平臺打蠟的區(qū)別：

 

1、本質(zhì)區(qū)別：

 

1)大理石磨塊拋光是石材晶面處理的前奏或石材加工中必要的一道工藝流程。其主要原理是利用由無機(jī)酸、金屬氧化物等物質(zhì)合成的壓制磨塊配合機(jī)械磨盤的壓力、高速磨削力、摩擦熱能，水的作用在比較光滑的大理石表面進(jìn)行物理、化學(xué)化合作用，從而形成新的光亮晶體層。此晶體層具有超亮的、清晰的光度，光度可達(dá)90-100度。此晶體層是石材表層（1-2mm厚）的改性化合晶體層。

 

2)大理石清洗是大理石打蠟拋光的前奏，大理石清洗打蠟拋光是屬于80--90年代初期比較流行的大理石清潔保養(yǎng)保護(hù)措施，如今已經(jīng)失去市場和存在的意義。它的本質(zhì)是在新鋪石材（拋光板）面上覆蓋的一種丙烯酸樹脂與乳液的聚合物的薄薄涂層，就是我們常說的水蠟或地板蠟。再經(jīng)過高速、低壓力的拋光機(jī)配合纖維墊在石材表面摩擦，使樹脂涂層加光亮的一個過程。由于產(chǎn)品的新，后來又出現(xiàn)了特光蠟、免拋蠟等，此涂層就類似于木地板上油的清漆。

 

3)大理石護(hù)理晶面處理前的磨塊拋光工藝是石材表層與化學(xué)物的物理和化合作用過程。石材表層與底層完全化合成一個整體，不存在脫離層。

 

4)大理石打蠟拋光上面的蠟層是附著于石材表面的，一層樹脂膜，與石材本身不存在化合反應(yīng)。此蠟?zāi)涌捎玫镀p輕一鏟，可以將蠟?zāi)は麟x于石材表面。

 

 

 

 

大理石平臺

2、表象區(qū)別：

 

1)大理石磨塊拋光是石材理護(hù)理晶面處理的前奏，石材護(hù)理拋光后光度高、清晰度高，耐磨、耐踩，不易刮花，是石材使用功能的真實(shí)體現(xiàn)和價值延伸。

 

2)打蠟拋光后的光度低，光度不清晰、而且很模糊，不耐磨、不耐水，易刮花、氧化變黃使石材本質(zhì)形象降低。